VMR-1515
VMR-1515TZ VMR-10080TZ

超高精度CNC画像測定システムNEXIV VMR-10080TZ

■測定対象
・液晶ガラス基板(パターン測定)
・有機ELガラス基板(パターン測定)

■特長
・1000×800mmの大ストロークで大型ガラス基板にも対応
・120×の光学倍率で、微小線幅も測定可能
・多彩な照明で、複雑な形状のエッジもシャープに検出
・高N.A.かつ微小スポットの高精度TTLレーザAF
・多機能かつユーザーフレンドリーな操作性
・高速ステージと高速画像処理で高スループット

■仕様

本体部
ストローク(X×Y×Z)  
  (高倍対物使用時) 1000×800×150mm
  (低倍対物使用時) 950×800×150mm
最小表示単位 0.1μm
被検物最大質量 40kg
測定精度  
  U1X, U1Y 2 + 4L/1000μm(被検物質量40kg時)
  U2XY 3 + 4L/1000μm(被検物質量40kg時)
Z軸測定精度 1.5 + L/150μm
カメラ 白黒1/3型CCD(プログレッシブスキャン)
カラー1/3型CCD
作動距離  高倍対物使用時 9.8mm 低倍対物使用時 32mm
倍率/視野 光学倍率 1〜120×
総合倍率 36〜4320×
視野 4.67×3..5〜0.039×0.029mm
オートフォーカス TTLレーザAF/イメージAF
照明 垂直落射、透過(高倍ヘッドのみ)、暗視野照明
供給電源 AC100V±10%、50/60Hz
消費電流 最大9A
寸法(W×D×H)/質量  
  本体
  本体+測定台 1530×2200×1750mm/約1500kg
  コントローラ 250×550×500mm/約31kg
設置寸法(W×D) 2800×2500mm
ホストコンピュータ
本体 IBM PC/AT互換機 (Windows®XP)
CRT 20型TFTカラー

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■測定例
高密度基板
高密度基板
液晶
液晶
フォトマスク
フォトマスク
CCD
CCD

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